[发明专利]一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法在审
| 申请号： | 201811257375.0 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109397007A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 徐学科;吴福林;曹俊;杨明红;顿爱欢;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B13/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘，转盘轴承和出水孔，其中，大理石为中空大理石；本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘，使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动，加快了抛光液的流动，这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀，提高了光学元件的表面质量；表面热场分布均匀，减少了抛光过程中的热积聚现象，提高了面形收敛效率，提高加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 校正盘 工件环 抛光机 大理石 抛光 靠轮 热场 驱动电机 抛光液 中空 托板 调控 抛光盘表面 驱动 单向流动 固定底座 光学元件 加工效率 抛光过程 热场分布 双向流动 转盘轴承 托盘 出水孔 控制箱 抛光粉 下托板 面形 水盆 底座 收敛 积聚 电机 流动 | ||
【主权项】：
1.一种新型高效热场调控抛光机，包括控制箱(1)、机架(2)、校正盘(3)、校正盘托板(4)、校正盘驱动电机(5)、校正盘驱动靠轮(6)、校正盘固定底座(7)、工件环驱动电机(8)、工件环驱动靠轮(9)、工件环(10)、大理石、工件环托板(12)、工件环底座(13)、水盆(14)、校正盘靠轮(15)、电机(16)、下托板(17)、托盘(18)、转盘轴承(19)、出水孔(20)和圆柱托盘(21)，其特征在于，所述的大理石为中空大理石(11)；所述的机架(2)由正方形的四个顶角处的支撑架支撑并置于底面上，所述下托板(17)固定在下方的支撑架上，所述下托板(17)上开了一个出水孔(20)，该出水孔(20)可连接出水管将中空大理石(11)中间流下来的水排到设备外部；所述圆柱托盘(21)固定在下托板(17)上，所述转盘轴承(19)固定在圆柱托盘(21)上方，由所述的电机(16)驱动；所述托盘(18)固定在中空大理石(11)的下方，由所述的转盘轴承(19)带动托盘(18)和中空大理石(11)转动；所述校正盘固定底座(7)固定在机架(2)上，通过铰链与校正盘托板(4)连接，校正盘托板(4)的一角出固定校正盘驱动电机(5)，用来驱动校正盘驱动靠轮(6)，从而驱动校正盘(3)；所述工件环底座(13)固定在机架(2)上，通过铰链与工件环托板(12)连接，工件环托板(12)的一角出固定工件环驱动电机(8)，用来驱动工件环驱动靠轮(9)，从而驱动工件环(10)；所述控制箱(1)放置在机架(2)旁边，用来控制校正盘(3)和工件环(10)的转速。
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