[发明专利]带隔离件的粘合剂层、其制造方法以及带有带隔离件的粘合剂层的光学膜在审

专利信息
申请号: 201811256297.2 申请日: 2014-06-06
公开(公告)号: CN109735245A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 保井淳;外山雄祐;石井孝证;藤田昌邦 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/30;C09J7/50;C09J133/08;C09J11/06;G02B1/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供即使在隔离件上形成含有离子性化合物的粘合剂层的情况下也能够抑制隔离件中使用的基材膜中的低聚物向粘合剂层中的转移的、带隔离件的粘合剂层。为此,本发明的带隔离件的粘合剂层在隔离件上具有粘合剂层,其特征在于,上述隔离件在基材膜上依次设置有低聚物防止层、脱模层,并且,上述脱模层的表面电阻值为1.0×1013Ω/□以上,上述粘合剂层由含有基础聚合物及离子性化合物的粘合剂组合物形成,且设置于上述隔离件的脱模层。
搜索关键词: 隔离件 粘合剂层 脱模层 离子性化合物 低聚物 基材膜 粘合剂组合物 基础聚合物 表面电阻 依次设置 防止层 光学膜 制造
【主权项】:
1.一种带隔离件的粘合剂层,其在隔离件上具有粘合剂层,其特征在于,所述隔离件中,在基材膜上依次设置有低聚物防止层、脱模层,并且,所述脱模层的表面电阻值为1.0×1013Ω/□以上,所述粘合剂层由含有基础聚合物及离子性化合物的粘合剂组合物形成,且设置于所述隔离件的脱模层。
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