[发明专利]一种多靶材真空镀膜装置及镀膜方法

摘要

本发明公开了一种多靶材真空镀膜装置及镀膜方法，属于镀膜加工领域。镀膜装置包括微动机构、衬底座、调整机构、掩膜机构、靶材换位机构、蒸发单元、检测机构等。方法包括：步骤一，准备；步骤二，选择靶材；步骤三，调整定位；步骤四，抽真空；步骤五，靶材蒸发；步骤六，靶材束沉积镀膜；步骤七，微动平台动作；步骤八，判断蒸镀是否完成；步骤九，判断是否选择另一种靶材继续蒸镀。本发明解决了现有真空蒸发镀膜中无法直接实现多种材料的真空蒸发镀膜问题，并能够实现单层图样、纳米阵列和多层结构制备。

主权项

1.一种多靶材真空蒸镀装置，其特征在于：包括调节机构、微动平台、衬底座、掩膜机构、靶材换位机构和激光头，其中，所述微动平台为XY两自由度的纳米平台；所述调节机构与微动平台连接，用以在X、Y和Z方向上调节微动平台的位置；所述衬底座活动安装于微动平台上，衬底座的下端留有安装衬底的槽体；所述掩膜机构安装于衬底座的下端，包括掩膜版和掩膜片，掩膜版和掩膜片上均留有掩膜孔，掩膜片固定于掩膜版上，使得掩膜片上的掩膜孔、掩膜版的掩膜孔和所述槽体在竖直方向上的投影重叠；靶材换位机构安装于掩膜机构的下端，包括支架和可旋转工位，可旋转工位安装于支架上，可旋转工位上设置有多个靶材槽，多个靶材槽环绕可旋转工位的旋转轴设置；激光头安装于靶材换位机构的下端，产生激光，冲击靶材槽中的靶材，产生靶材束气流。