[发明专利]一种用于DMD光刻成像系统的自由曲面透镜的设计方法有效
| 申请号： | 201811218613.7 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN109212636B | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 陆子凤;刘华;孙彦杰;李乾坤 | 申请（专利权）人： | 东北师范大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B27/00 |
| 代理公司： | 长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206 | 代理人： | 李晓莉 |
| 地址： | 130024 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种用于DMD光刻成像系统的自由曲面透镜及其设计方法，属于光学技术领域，DMD单微镜与自由曲面透镜的距离为1mm，自由曲面透镜的材料为硅晶体，外轮廓尺寸为12mm×21mm，厚度为1mm，前表面面型为平面，后表面面型为自由曲面，最大畸变量为10.63μm，方法包括计算能够平滑光刻图案边缘的DMD单微镜的线性错位，设计具有特殊畸变特性的自由曲面透镜，投影成像系统的建模，本发明可以缩小DMD扫描光刻图案边缘锯齿，以获得最佳的光刻图形质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 dmd 光刻 成像 系统 自由 曲面 透镜 设计 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于DMD光刻成像系统的自由曲面透镜，其特征是：DMD单微镜与自由曲面透镜的距离为1mm，自由曲面透镜的材料为硅晶体，外轮廓尺寸为12mm×21mm，厚度为1mm，前表面面型为平面，后表面面型为自由曲面，最大畸变量为10.63μm。
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