[发明专利]一种离子注入装置有效
| 申请号： | 201811201334.X | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN111063599B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 彭立波;王迪平;钟新华;袁卫华;胡振东;金泽军;许波涛 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/10 | 分类号： | H01J37/10;H01J37/317;H01J37/244;H01J37/147;H01L21/67 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种离子注入装置，包括屏蔽房、依次设置的离子源、引出电极、分析器、分析光栏、聚焦透镜、加速管、对称静电扫描电极以及均匀磁场平行透镜，屏蔽房内设有相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一腔室内设有高压仓，第二腔室内设有靶室，离子源、引出电极、分析器、及分析光栏设于高压仓内，加速管设于第一腔室内，高压仓上设有供离子束进入加速管的第一出口，第一腔室上设有供离子束进入对称静电扫描电极的第二出口，对称静电扫描电极和均匀磁场平行透镜设于第二腔室内，靶室内设有靶台、定向台、片库以及至少一个用于传递晶圆的机械手，靶室上设有供离子束注入靶台上晶圆的注入口。本发明具有结构简单、成本低、便于实现高能高精度注入等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
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