[发明专利]一种显示面板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201811195570.5 申请日: 2018-10-15
公开(公告)号: CN109494313A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 卜呈浩 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请提出了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板的制作方法包括提供一衬底,在所述衬底上依次形成阻隔水氧层、缓冲层、有源层、第一栅绝缘层、第一栅极层、第二栅绝缘层、第二栅极层、层间介质层。形成第一过孔和第二过孔。在所述第一过孔和所述第二过孔内填充柔性材料,以分别形成柔性层和应力释放单元。在所述第一基板的显示区域形成第三过孔,所述第三过孔与所述有源层接触。在所述层间介质层上形成金属层,所述金属层将所述第三过孔填充。本申请通过提出了多种制备显示面板中过孔的方法,以在进行显示面板过孔制备的过程中根据实际需求选择不同的蚀刻方案,减少了光罩使用次数,简化了显示面板的制作工艺。
搜索关键词: 显示面板 层间介质层 栅绝缘层 金属层 栅极层 衬底 源层 制备 制作 蚀刻 填充柔性材料 应力释放单元 第一基板 实际需求 显示区域 制作工艺 缓冲层 柔性层 光罩 水氧 申请 填充 阻隔
【主权项】:
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:步骤S10、提供一衬底,在所述衬底上依次形成阻隔水氧层、缓冲层、有源层、第一栅绝缘层、第一栅极层、第二栅绝缘层、第二栅极层、层间介质层,以形成包括显示区域和非显示区域的第一基板;步骤S20、在所述第一基板的非显示区域形成第一过孔,在所述第一基板的显示区域形成第二过孔,所述第一过孔与所述衬底接触并贯穿除所述衬底以外的其它膜层,所述第二过孔与所述阻隔水氧层接触并贯穿除所述衬底和所述阻隔水氧层以外的其它膜层;步骤S30、在所述第一过孔和所述第二过孔内填充柔性材料,以分别形成位于第一过孔内的柔性层和位于第二过孔内的应力释放单元;步骤S40、在所述第一基板的显示区域形成第三过孔,所述第三过孔与所述有源层接触;步骤S50、在所述层间介质层上形成金属层,所述金属层将所述第三过孔填充。
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