[发明专利]护层框架、护层和剥离护层的方法在审
| 申请号： | 201811175050.8 | 申请日： | 2018-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109656096A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 簗濑优 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种护层框架、护层和剥离护层的方法。本发明的目的在于提供一种框架形状的护层框架，其具有上端面和下端面，所述上端面上配置有护层膜，所述下端面面对光掩模，其特征在于，从下端面的外侧面朝向内侧面设置有凹口部；包括护层框架作为元件的护层；以及用于从安装有护层的光掩模上剥离护层的方法，其特征在于，将剥离夹具从护层框架的侧面插入凹口部，并在这种状态下使剥离夹具在护层框架的上端面方向移动，以从光掩模上剥离护层。 | ||
| 搜索关键词： | 护层 光掩模 剥离 剥离夹具 上端面 下端面 侧面设置 插入凹口 方向移动 框架形状 凹口部 外侧面 上端 下端 侧面 配置 | ||
【主权项】：
1.一种框架形状的护层框架，具有用于在其上配置护层膜的上端面和面对光掩模的下端面，和从下端面的外侧面朝向内侧面设置的凹口部。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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