[发明专利]柔性基底薄膜体声波谐振器及其形成方法在审
申请号: | 201811154828.7 | 申请日: | 2018-09-30 |
公开(公告)号: | CN109257026A | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 刘伯华;张孟伦;杨清瑞;庞慰 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H3/02;H03H3/007 |
代理公司: | 北京汉智嘉成知识产权代理有限公司 11682 | 代理人: | 姜劲;谷惠敏 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供一种柔性基底薄膜体声波谐振器及其形成方法,有助于提高器件的Q值,改善器件性能。其中,柔性基底薄膜体声波谐振器的形成方法,包括:提供牺牲层;在牺牲层之上形成谐振结构;在谐振结构之上形成顶部声反射结构;去除牺牲层,从而得到堆叠结构,然后将堆叠结构通过翻转工艺转移到柔性基底上,堆叠结构包括谐振结构和顶部声反射结构;在顶部声反射结构之上形成封装层。 | ||
搜索关键词: | 柔性基底 薄膜体声波谐振器 堆叠结构 谐振结构 声反射 牺牲层 器件性能 翻转 封装层 去除 | ||
【主权项】:
1.一种柔性基底薄膜体声波谐振器的形成方法,其特征在于,包括:提供牺牲层;在所述牺牲层之上形成谐振结构;在所述谐振结构之上形成顶部声反射结构;去除所述牺牲层,从而得到堆叠结构,然后将所述堆叠结构通过翻转工艺转移到柔性基底上,所述堆叠结构包括所述谐振结构和所述顶部声反射结构;在所述顶部声反射结构之上形成封装层。
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