[发明专利]一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构有效
| 申请号： | 201811150730.4 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109243661B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 黄秋实;王占山;蒋励;张众 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02;G21K1/06 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 侧壁 倾斜 射线 层状 多层 光栅 结构 | ||
【主权项】：
1.一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，其特征在于，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值。
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