[发明专利]离子源和等离子体处理设备在审
申请号: | 201811149276.0 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN110970280A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/30;H01J37/317 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种离子源和等离子体处理设备,离子源包括反应腔,包含一环形腔体,环形腔体上设置有进气管和出气管,环形腔体内壁的径向截面为圆形,进气管内壁和出气管内壁的径向截面均为椭圆形,且三者内壁光滑过渡。环形腔体上环绕有环形磁芯,环形磁芯连接射频电源。本发明离子源消除了腔体内壁棱角,为等离子体提供了一光滑无棱角的环形生成回路,能最大限度保证等离子体回路顺畅,减少不必要碰撞消损和热传导,增了加等离子体效益时间;且降低了反应腔各部分的降低了热通量,减少了效能损耗。 | ||
搜索关键词: | 离子源 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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