[发明专利]半导体装置与影像感测器集成芯片的形成方法有效
| 申请号: | 201811124968.X | 申请日: | 2018-09-26 |
| 公开(公告)号: | CN109841641B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
| 发明(设计)人: | 郭晋嘉;吴东庭;施俊吉;黄益民 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本公开实施例关于具有将光同调地朝影像感测器反射的横向共振结构的半导体装置。半导体装置包括影像感测单元配置于基板中。射线吸收区配置于基板中及影像感测器上,并包含具有特征尺寸与外侧边界的凸状物阵列。包含多个深沟槽隔离结构的共振结构位影像感测单元的两侧上。深沟槽隔离结构围绕凸状物阵列的外侧边界。深沟槽隔离结构的内侧表面与凸状物阵列的外侧边界横向地隔有反射长度,因此影响反射回影像感测器的光的同调反射。上述反射长度取决于凸状物阵列的特征尺寸。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 影像 感测器 集成 芯片 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,设置以检测电磁射线且包括:一影像感测单元,配置于一基板中;一射线吸收区,包含沿着该基板的一第一侧的多个凸状物的阵列配置于该影像感测单元上,且所述凸状物的阵列具有一特征尺寸与一外侧边界;以及一深沟槽隔离结构,围绕所述凸状物的阵列的该外侧边界,该深沟槽隔离结构自该基板的该第一侧延伸至该基板中,其中该深沟槽隔离结构的内侧表面与所述凸状物的阵列的该外侧边界之间横向地隔有一反射长度,且该反射长度取决于所述凸状物的阵列的该特征尺寸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





