[发明专利]一种瞬态电压抑制器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811093615.8 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN109360822B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 张辉
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 44525 代理人: 李明香
地址: 325608 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种瞬态电压抑制器及其制作方法,包括:在第一导电类型的衬底中形成第一沟槽和第二沟槽;形成第二导电类型的外延层,包括形成于所述衬底上表面的第一部分,以及分别形成于所述第一沟槽和所述第二沟槽内形成的第二部分;在所述衬底和所述外延层交界处形成覆盖所述第一沟槽和所述第二沟槽上表面,以及所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的所述衬底上表面的第一介质层;在所述衬底内形成覆盖所述第一沟槽下表面的第二介质层以及覆盖所述第二沟槽下表面的第三介质层,所述第二介质层和所述第三介质层分别沿着相互背离的方向延伸至所述外延层边缘;在所述外延层上表面形成第一电极;在所述衬底下表面形成第二电极,从而降低了器件制造成本。
搜索关键词: 一种 瞬态 电压 抑制器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种瞬态电压抑制器,其特征在于,包括:第一导电类型的衬底;第一沟槽和第二沟槽,形成于所述外延层内;第二导电类型的外延层,包括形成于所述衬底上表面的第一部分,以及分别形成于所述第一沟槽和所述第二沟槽内的第二部分;第一介质层,注入形成于所述衬底和所述外延层交界处并覆盖所述第一沟槽和所述第二沟槽的上表面,以及所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的所述衬底的上表面;第二介质层和第三介质层,分别注入形成于所述衬底内并覆盖所述第一沟槽和所述第二沟槽的下表面,所述第二介质层和所述第三介质层分别沿着相互背离的方向延伸至所述外延层的边缘;第一电极,形成于所述外延层的上表面并与所述外延层连接;第二电极,形成于所述衬底的下表面并与所述衬底连接。
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