[发明专利]一种LED晶圆及其制作方法在审
申请号: | 201811085449.7 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN109103308A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 吴亦容;庄家铭;陈凯;赵兵 | 申请(专利权)人: | 佛山市国星半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡枫 |
地址: | 528200 广东省佛山市南海区狮*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种LED晶圆,包括蓝宝石衬底、设于蓝宝石衬底表面的缓冲层、设于缓冲层上的非掺杂GaN层、设于非掺杂GaN层上的N型GaN层、设于N型GaN层上的有源层、设于有源层上的电子阻挡层、设于电子阻挡层上的P型GaN层、以及设于蓝宝石衬底背面的导热层,所述导热层由AlN或SiC或Si或DLC或GaN或InN或石墨烯制成,所述导热层的耐受温度为2000℃。相应地,本发明还提供了一种LED晶圆的制作方法。本发明在蓝宝石衬底的背面形成导热层,使蓝宝石衬底受热均匀,提高外延的质量。 | ||
搜索关键词: | 蓝宝石 导热层 衬底 非掺杂GaN层 电子阻挡层 缓冲层 源层 衬底表面 受热均匀 石墨烯 耐受 制作 背面 | ||
【主权项】:
1.一种LED晶圆,其特征在于,包括蓝宝石衬底、设于蓝宝石衬底表面的缓冲层、设于缓冲层上的非掺杂GaN层、设于非掺杂GaN层上的N型GaN层、设于N型GaN层上的有源层、设于有源层上的电子阻挡层、设于电子阻挡层上的P型GaN层、以及设于蓝宝石衬底背面的导热层,所述导热层由AlN或SiC或Si或DLC或GaN或InN或石墨烯制成,所述导热层的耐受温度为2000℃。
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