[发明专利]一种AlTiN涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201811062286.0 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN108796432A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 王启民;李季飞;张腾飞;刘辞海 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张春水;唐京桥 |
| 地址： | 510006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种AlTiN涂层及其制备方法，AlTiN涂层由Cr轰击植入层、CrN过渡层和AlTiN表面功能层组成，该AlTiN涂层与基体的结合力足够强，不易产生剥落现象，在高温下的摩擦系数较小。该制备方法包括清洗基体工序、刻蚀工序、沉积Cr轰击植入层工序、沉积CrN过渡层工序、沉积AlTiN表面功能层工序和冷却工序，在三个具体沉积工序中，应用阴极脉冲电弧技术，通过调整脉冲电弧电源输出电流最大值、最小值、占空比、频率，使得在脉冲放电期间能够产生更高密度的等离子体，相比传统电弧离子镀技术制备的AlTiN涂层，本实施例制备的AlTiN涂层具有涂层表面粗糙度明显改善、表面大颗粒数量明显减少、膜层致密性更紧密、膜基结合力更高和高温下摩擦系数更低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 沉积 表面功能层 摩擦系数 过渡层 植入层 轰击 等离子体 脉冲电弧电源 离子镀技术 膜基结合力 剥落现象 传统电弧 电弧技术 刻蚀工序 冷却工序 脉冲放电 输出电流 涂层表面 阴极脉冲 粗糙度 大颗粒 结合力 占空比 致密性 膜层 清洗 申请 应用 | ||
【主权项】：
1.一种AlTiN涂层，其特征在于，包括沉积在基体上依次层叠的Cr轰击植入层、CrN过渡层和AlTiN表面功能层；所述CrN过渡层中各元素的原子百分比含量为：Cr占40～70at％，N占30～60at％；所述AlTiN表面功能层中各元素的原子百分比含量为：Al占20～40at％，Ti占15～35at％，N占30～60at％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学，未经广东工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811062286.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电路板的镀膜工艺
- 下一篇：掩模片、掩模板及其组装方法
- 同类专利
- 专利分类
