[发明专利]一种表面势紧凑模型参数提取方法有效

专利信息
申请号: 201811040936.1 申请日: 2018-09-06
公开(公告)号: CN109241623B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 徐跃杭;张佳琪 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 邹裕蓉
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种表面势紧凑模型参数提取方法,属于功率器件技术领域。本发明所述方法具体为:根据非线性电流‑电压(I‑V)模型中各参数所具有的不同物理意义,对模型参数进行分块;再通过分别拟合模型参数所对应的实测脉冲I‑V或静态I‑V转移特性曲线,得到各分块后的模型参数;最后通过对比仿真与实测值,证明该参数提取方法具有较高的精度。本发明所述方法的最大优势在于操作简便,可快速、准确地完成氮化镓高电子迁移率晶体管GaN HEMT表面势紧凑模型参数的提取,提高GaN HEMT器件建模的效率。
搜索关键词: 一种 表面 紧凑 模型 参数 提取 方法
【主权项】:
1.一种表面势紧凑模型参数提取方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1.提取具有明确物理意义的物理参数:将晶体管源极接地,选取静态偏置点:漏极‑源极电压静态偏置点Vdsq=0V,栅极‑源极电压静态偏置点Vgsq=‑4V,进行脉冲测试,得到多个漏源电压Vds下的转移特性曲线;拟合每个漏源电压Vds下的脉冲I‑V的转移特性曲线,得到自热效应和陷阱效应无关的模型参数:阈值电压Voff、Al组分含量xAl、势垒层厚度di、极化面电荷密度σ;拟合静态I‑V的线性区和饱和区,分别得到模型参数:低场迁移率μ0、饱和电子速率vsat;步骤2.提取具有一定物理含义的半经验半物理参数:拟合静态I‑V曲线,得到自热效应相关的模型参数PT;选取不同的静态偏置点,将I‑V模型中的栅极‑源极电压Vgs替换为表征陷阱效应的等效栅极电压Vgseff,等效栅极电压Vgseff为漏极‑源极电压Vds、栅极‑源极电压Vgs、漏极‑源极电压静态偏置点Vdsq、栅极‑源极电压静态偏置点Vgsq的函数,再拟合脉冲I‑V曲线,即可得到陷阱效应相关的模型参数:ksurf,Vgspinchoff,ksubs,Vdssub0;步骤3.提取不具有物理意义的经验参量:用于修正器件静态电流Ids表达式的拟合项Ma:其中,wa1,wb1,wc1,wa2,wb2,wc2,wd为模型中的经验参量;通过拟合器件的输出曲线,得到经验参量wa1,wb1,wc1,wa2,wb2,wc2,wd。
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