[发明专利]一种PEALD低温制备铁电薄膜的方法及铁电薄膜有效
| 申请号： | 201811002707.0 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109055916B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 廖敏;游朋先;郑帅至;彭强祥;尹路;周益春 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/40 |
| 代理公司： | 11489 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 陈超 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种铁电薄膜的制备方法，属于铁电薄膜制备技术领域，包括：S1：用衬底材料制备衬底；S2：在第一预设温度范围内，采用等离子增强原子层沉积方法对所述衬底进行处理，得到预定厚度的铁电薄膜。通过该方法制备的铁电薄膜，在制备过程中与硅衬底材料的兼容性高，而且制备的铁电薄膜其应用时的铁电性能具有较高的自发极化、剩余极化值大、抗疲劳性高、保持时间长等特性。 | ||
| 搜索关键词： | 铁电薄膜 制备 衬底 制备技术领域 等离子增强 硅衬底材料 原子层沉积 衬底材料 低温制备 抗疲劳性 剩余极化 铁电性能 制备过程 自发极化 兼容性 预设 应用 | ||
【主权项】：
1.一种PEALD低温制备铁电薄膜的方法，其特征在于，包括：/nS1：用衬底材料制备衬底；/nS2：在第一预设温度范围内，采用等离子增强原子层沉积方法对所述衬底进行处理，得到预定厚度的铁电薄膜；/n其中，所述步骤S2具体包括：/nS21：向反应腔室中通入载气，通入载气的同时将反应腔室温度升高至220-330℃，并保持恒温，且控制压强范围为150-185mtorr；/nS22：将至少两种金属源前驱体和/或氧源前驱体按预定顺序对所述衬底分别进行脉冲叠层，并在每两次脉冲叠层之间进行一次载气吹扫，得到铁电薄膜预成型品；/nS23：对所述铁电薄膜预成型品在第二预设温度范围内退火第一预定时长，得到所述20-30纳米厚的铁电薄膜。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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