[发明专利]氮化物荧光体的制造方法、氮化物荧光体及发光装置有效
| 申请号: | 201810965263.4 | 申请日: | 2018-08-23 |
| 公开(公告)号: | CN109423284B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
| 发明(设计)人: | 涌井贞一;西俣和哉;细川昌治 | 申请(专利权)人: | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号: | C09K11/80 | 分类号: | C09K11/80;H01L33/50 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: |
本发明提供氮化物荧光体及其制造方法、发光装置。该制造方法将具有下述组成的烧成物作为荧光体核,上述组成含有:选自Sr、Ca、Ba及Mg中的至少1种元素M |
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| 搜索关键词: | 氮化物 荧光 制造 方法 发光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物荧光体的制造方法,所述氮化物荧光体将具有下述组成的烧成物作为荧光体核,所述组成含有:选自Sr、Ca、Ba及Mg中的至少1种元素Ma;选自Li、Na及K中的至少1种元素Mb;选自Eu、Ce、Tb及Mn中的至少1种元素Mc;Al;根据需要使用的Si;以及N,所述制造方法包括下述工序:准备具有所述组成的烧成物;使所述烧成物与含氟物质接触,以120℃以上且500℃以下的温度进行第1热处理,在所述烧成物上形成包含氟化物的第1膜;以及在所述烧成物上形成包含含有选自Si、Al、Ti、Zr、Sn及Zn中的至少1种金属元素M2的金属氧化物的第2膜,以大于250℃且500℃以下的温度进行第2热处理。
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