[发明专利]金属互连线及其形成方法在审
| 申请号： | 201810950311.2 | 申请日： | 2018-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN110854102A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 邓浩 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/538 | 分类号： | H01L23/538;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种金属互连线及其形成方法。金属互连线的金属扩散阻挡层包括掺锰的钌薄膜层，由于锰离子趋于向膜层的空隙或晶界扩散，从而可有效减少金属扩散阻挡层中空隙和晶界的数量，相应的阻断了金属层中金属离子的扩散通道，有利于提高金属扩散阻挡层对金属离子的阻挡性能。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 互连 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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