[发明专利]一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光机

摘要

本发明涉及曝光设备技术领域，且公开了一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光机，包括曝光装置，所述曝光装置包括箱体，箱体内的顶部固安装有超高压汞灯，该超高压汞灯的正下方设置有掩膜板，掩膜板两侧的中部分别对称设置有第一压杆与第二压杆，掩膜板的正下方设置有曝光台，曝光台的上表面上设置有凹槽，该凹槽内放置有基板，凹槽的两侧分别设置有对称的导轨槽，导轨槽里分别滑动连接有对称设置在刮板的底端两侧的滑块；基板与掩膜板之间设置有透光板；箱体左侧壁上的第一通气口与制冷装置的冷气口连接；箱体右侧壁上的第二通气口通过安装有抽气泵的导气管与气体净化装置的进气口连接。本发明解决了掩膜板容易受到光刻胶污染的问题。

主权项

1.一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光机，包括曝光装置(1)，其特征在于：所述曝光装置(1)包括箱体(11)，箱体(11)的前侧壁上开设有箱门，箱门的一侧通过合页与箱体(11)铰接，其另一侧通过按压弹簧与箱体(11)非固定连接，该按压弹簧的正下方安装有箱门把手(12)；箱体(11)的左侧壁上开设有第一通气口(13)，箱体(11)的右侧壁上开设有第二通气口(14)；箱体(11)内的顶部固定安装有超高压汞灯(2)，该超高压汞灯(2)的正下方设置有掩膜板(5)，掩膜板(5)两侧的中部分别对称设置有第一压杆(51)与第二压杆(52)，第一压杆(51)与第二压杆(52)的一端均固定安装在掩膜板(5)的表面上，其另一端均从箱体(11)腔体内经其顶部穿出，位于箱体(11)外部的第一压杆(51)与第二压杆(52)的端部均安装有转动手轮且通过限位板(53)连接；掩膜板(5)的正下方设置有曝光台(3)，曝光台(3)的底端固定安装有呈对称设置的四个支撑柱(31)，曝光台(3)的上表面上设置有凹槽(36)，该凹槽(36)内放置有基板(4)，且基板(4)的上表面与曝光台(3)的上表面设置在同一水平面上，凹槽(36)的两侧分别设置有对称的导轨槽(33)，呈对称设置的两个导轨槽(33)的槽道里分别滑动连接有对称设置在刮板(32)的底端两侧的滑块(35)，刮板(32)的顶端中部固定安装有板拉手(34)，刮板(32)的底端面与基板(4)的上表面为移动线接触；基板(4)与掩膜板(5)之间设置有透光板(6)，透光板(6)的上表面的中部设置有掩膜板(5)，掩膜板(5)与透光板(6)之间通过螺杆(54)连接，该螺杆(54)的一端部通过螺纹与螺母(55)连接；第一通气口(13)通过导气管与制冷装置(7)的冷气口(71)连接，该冷气口(71)开设在蒸发器(74)的一侧；第二通气口(14)通过安装有抽气泵(8)的导气管与气体净化装置(9)的进气口(91)连接，该进气口(91)与设置在气体净化装置(9)的腔体内的蜂窝吸附器(93)的开口端呈相互垂直设置。