[发明专利]三维结构、制作三维结构的方法、及流体喷射装置在审
| 申请号： | 201810920947.2 | 申请日： | 2018-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109422238A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 克里斯多夫·A·克拉夫特;大卫·C·格拉姆 | 申请（专利权）人： | 船井电机株式会社 |
| 主分类号： | B81B7/02 | 分类号： | B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本大阪府大*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于处理流体的三维(“3D”)结构、一种包含所述三维结构的流体处理装置以及一种制作所述三维结构的方法。所述三维结构包括复合膜层。所述复合膜层包括第一光致抗蚀剂层及至少一第二光致抗蚀剂层。所述第一光致抗蚀剂层中包含第一光酸产生剂，所述第一光酸产生剂具有至少一第一辐射曝光波长。所述第二光致抗蚀剂层中具有第二光酸产生剂，所述第二光酸产生剂具有与所述第一辐射曝光波长不同的第二辐射曝光波长。所述复合膜层在所述第一光致抗蚀剂层与所述第二光致抗蚀剂层之间不具有粘附促进层。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂层 三维结构 光酸产生剂 辐射曝光 复合膜层 波长 流体处理装置 流体喷射装置 粘附促进层 处理流体 制作 三维 | ||
【主权项】：
1.一种三维结构，其特征在于，所述三维结构包括：复合膜层，包括：第一光致抗蚀剂层，所述第一光致抗蚀剂层中具有第一光酸产生剂，所述第一光酸产生剂具有至少一第一辐射曝光波长；以及至少一第二光致抗蚀剂层，所述第二光致抗蚀剂层中具有第二光酸产生剂，所述第二光酸产生剂具有与所述第一辐射曝光波长不同的第二辐射曝光波长，其中，所述复合膜层在所述第一光致抗蚀剂层与所述第二光致抗蚀剂层之间不具有粘附促进层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于船井电机株式会社，未经船井电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810920947.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
