[发明专利]无规共聚物、层压板和形成图案的方法有效
| 申请号: | 201810886120.4 | 申请日: | 2018-08-06 |
| 公开(公告)号: | CN109422849B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
| 发明(设计)人: | 李滥揆;金善英;李光国;咸珍守 | 申请(专利权)人: | SK新技术株式会社 |
| 主分类号: | C08F220/14 | 分类号: | C08F220/14;C08F212/08;C08F220/34;C08F212/14;C08F8/14;C08J3/24;G03F7/039;G03F7/11;C08L33/12 |
| 代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;赵赫 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。 | ||
| 搜索关键词: | 共聚物 层压板 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.用于形成中性层的无规共聚物,其包括由以下化学式1‑3表示的结构单元:[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
其中,R1‑R8彼此独立地为氢、卤素或C1‑C10烃基,L1和L2为连接基团,彼此独立地为直接键、‑C(=O)‑O‑或C1‑C20亚烃基,R9和R10彼此独立地为氢、卤素、C1‑C10烃基、
或者
且R9和R10中的至少一种为
L3为C1‑C10亚烃基,R11和R12彼此独立地为C1‑C10烃基、C1‑C10全卤代烃基或部分卤代的C1‑C10烃基,和当将各自随机排列的、化学式1‑3的结构单元的摩尔分数按此顺序分别定义为m、n和l时,基于结构单元的总摩尔分数,m、n和l分别满足0.2
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