[发明专利]一种三维全金属微腔结构表面等离激元阵列加工方法在审
| 申请号： | 201810870421.8 | 申请日： | 2018-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109095435A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 吴文刚;朱佳;林冠州;黄允 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人： | 苏爱华 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种三维全金属微腔结构表面等离激元阵列加工方法。其主要步骤包括：衬底材料准备；在所述衬底上沉积金属铝；接着在铝膜上进行光刻形成图形化衬底；然后在已经图形化的衬底上沉积金属，并利用剥离工艺将光刻图形转化为金属图形；最后以图形化金属为掩模，用铝腐蚀液腐蚀铝膜，通过横向钻蚀形成三维腔体结构。上述步骤中，通过对光刻图形的设计、铝膜的厚度以及铝腐蚀液的腐蚀时间来对三维腔体结构的形状、高度、宽度进行调控。本发明所采用的湿法腐蚀工艺，工艺方法简单、稳定并且对材料的腐蚀选择性好，可实现大面积加工，并且可实现近完美吸收的光学特性，这将在光学器件以及生化传感方面有巨大的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 表面等离激元 沉积金属 铝腐蚀液 三维腔体 微腔结构 全金属 铝膜 三维 加工 腐蚀 光刻形成图形 图形化金属 剥离工艺 衬底材料 腐蚀铝膜 光刻图形 光学器件 光学特性 金属图形 湿法腐蚀 应用潜力 图形化 传感 掩模 钻蚀 生化 调控 吸收 转化 | ||
【主权项】：
1.一种三维全金属微腔结构表面等离激元阵列加工方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)衬底材料准备；(2)在(1)所述衬底上沉积金属铝；(3)在(2)所述沉积层上进行光刻形成图形化衬底，具体而言：先旋涂光刻胶，并通过曝光和显影以制备预定图形；(4)在(3)所述图形化衬底上沉积金属，并利用剥离工艺将光刻图形转化为金属图形，得到图形化的金属衬底；(5)以(4)所述的图形化金属为掩模，用铝腐蚀液腐蚀铝膜，通过横向钻蚀形成三维腔体结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学，未经北京大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810870421.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
