[发明专利]反应腔室以及等离子体设备在审
| 申请号： | 201810864893.2 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN108987237A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 王伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 巴晓艳 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种反应腔室以及等离子体设备，反应腔室包括：腔室本体、内衬、支撑组件和升降驱动装置；内衬包括：第一内衬和第二内衬；第二内衬同轴外套或内套于第一内衬上，在第一内衬与第二内衬之间具有间隙，升降驱动装置用于驱动第二内衬上升或下降；在对晶圆进行工艺处理时，第一内衬和第二内衬的重叠部分的长度为预定长度，使得晶圆位于由第一内衬和第二内衬围成的工艺区域内。本发明的反应腔室以及等离子体设备，可以在工艺处理过程中将等离子体限定在一定的工艺区域内，同时能够保护腔室本体的内壁不被刻蚀，提高了工艺过程中的气流均匀性，能够保证工艺长时间稳定，使晶圆中心到边缘的刻蚀结果有较好的一致性，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 内衬 反应腔室 等离子体设备 升降驱动装置 工艺区域 晶圆 刻蚀 等离子体 工艺处理过程 气流均匀性 产品良率 工艺处理 工艺过程 晶圆中心 腔室本体 时间稳定 同轴外套 支撑组件 保护腔 室本体 内壁 内套 驱动 保证 | ||
【主权项】：
1.一种反应腔室，其特征在于，包括：腔室本体、内衬、用于支撑晶圆的支撑组件和升降驱动装置；所述内衬和所述支撑组件设置在所述腔室本体内；所述内衬包括：第一内衬和第二内衬；所述第一内衬与所述腔室本体固定连接，所述第二内衬同轴外套或内套于所述第一内衬上，在所述第一内衬与所述第二内衬之间具有间隙，所述升降驱动装置用于驱动所述第二内衬上升或下降；其中，在对晶圆进行工艺处理时，所述升降驱动装置驱动所述第二内衬下降并位于预设的第一位置，所述第一内衬和所述第二内衬的重叠部分的长度为预定长度，所述晶圆位于由所述第一内衬和所述第二内衬围成的工艺区域内。
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