[发明专利]一种适用于任意曲面透明介电材料的激光湿法蚀刻方法在审
| 申请号： | 201810861897.5 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN109202297A | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 马丁·伊尔哈特;韩冰;克劳斯·齐默;朱日宏;倪晓武 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学;德国莱布尼兹表面物理研究所 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 马鲁晋 |
| 地址： | 210094 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种适用于任意曲面透明介电材料的激光湿法蚀刻方法，具体步骤为：将柔性掩膜贴附于待刻蚀材料背面，所述掩膜表面设有开口，将对激光具有吸收性的液体充满掩膜开口作为吸收薄膜；使激光从材料正面入射，聚焦于待刻蚀材料与吸收薄膜交界面；当待刻蚀材料达到加工所需深度，停止激光照射，移除掩膜。激光由材料正面入射，穿过透明材料和掩膜，仅在材料背面吸收液体薄膜与材料界面处被吸收，进而引起材料移除。本发明中的待刻蚀材料表面蚀刻形貌由掩膜开口形状和尺寸决定。本发明适用于具有平面或曲面表面的透明材料表面微结构成型。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜 刻蚀材料 激光 透明介电材料 材料正面 湿法蚀刻 吸收薄膜 入射 背面 开口 形貌 透明材料表面 表面蚀刻 材料界面 材料移除 尺寸决定 激光照射 开口形状 曲面表面 透明材料 吸收液体 掩膜表面 液体充满 交界面 微结构 吸收性 贴附 移除 薄膜 成型 聚焦 穿过 吸收 加工 | ||
【主权项】：
1.一种适用于任意曲面透明介电材料的激光湿法蚀刻方法，其特征在于，具体步骤为：步骤1、将柔性掩膜贴附于待刻蚀材料背面，所述掩膜表面设有开口，将对激光具有吸收性的液体充满掩膜开口作为吸收薄膜；步骤2、使激光从材料正面入射，聚焦于待刻蚀材料与吸收薄膜交界面；步骤3、当待刻蚀材料达到加工所需深度，停止激光照射，移除掩膜。
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