[发明专利]一种阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201810847656.5 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN109085949B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 林柏全;席克瑞;李小和;秦锋 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/046
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201201 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及显示装置,阵列基板包括位于衬底基板上的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管;多个位于第一膜层且位于第一薄膜晶体管靠近衬底基板的一侧的第一磁感结构;第一薄膜晶体管的第一有源层在衬底基板上的垂直投影位于第一磁感结构在衬底基板上的垂直投影内;多个与第一磁感结构同层设置且位于第二薄膜晶体管靠近衬底基板的一侧的第一图案化结构;第二薄膜晶体管的第二有源层在衬底基板上的垂直投影位于第一图案化结构在衬底基板上的垂直投影内。通过本发明的技术方案,弥补了未设置第一磁感结构位置断差与设置有第一磁感结构位置断差的差异,改善了断差差异影响薄膜晶体管有源层导电特性的问题,提高了显示装置的显示均匀性。
搜索关键词: 一种 阵列 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;位于衬底基板上的多个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管;多个第一磁感结构,所述第一磁感结构位于第一膜层,且位于所述第一薄膜晶体管靠近所述衬底基板的一侧;所述第一薄膜晶体管包括第一有源层,所述第一有源层在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第一磁感结构在所述衬底基板上的垂直投影内;多个第一图案化结构,所述第一图案化结构与所述第一磁感结构同层设置,且位于所述第二薄膜晶体管靠近所述衬底基板的一侧;所述第二薄膜晶体管包括第二有源层,所述第二有源层在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第一图案化结构在所述衬底基板上的垂直投影内。
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