[发明专利]检查基板的系统和方法及使用其制造半导体器件的方法

摘要

本公开提供了检查基板的系统和方法及使用其制造半导体器件的方法。一种基板检查系统包括：基板支撑件；光学器件，配置为照射基板上的图案化结构以及从由图案化结构反射的光捕获图案化结构的图像；焦点调整装置，操作为调整入射光在图案化结构上的焦点位置；图像处理器，配置为计算焦点偏移的最佳值，以确定用于图案化结构中的缺陷检测的光的焦点。图案化结构可以包括具有开口的第一图案以及具有相对于基板位于不同高度处的顶表面的第二图案。焦点偏移值采用在改变入射光的焦点位置的同时获得的第二图案的顶表面的图像来确定。

主权项

1.一种用于半导体器件的质量控制的检查方法，包括：确定最佳焦点偏移值；用基于所述最佳焦点偏移值聚焦的入射光照射基板上的分层结构，所述分层结构包括具有顶表面和其中的开口的第一图案以及相对于所述基板的顶表面具有位于不同高度处的顶表面的第二图案，所述开口从所述第一图案的所述顶表面在垂直于所述基板的顶表面的方向上延伸；作为照射所述分层结构的结果，从由所述分层结构反射的光捕获所述分层结构的图像；以及采用所述分层结构的所捕获的图像检测所述分层结构中的缺陷，其中所述最佳焦点偏移值的确定包括：在改变所述入射光的焦点位置的同时捕获焦点偏移图像，每个焦点偏移图像是所述分层结构的包括所述第二图案的所述顶表面的区域的图像，从而在所述入射光的不同焦点位置捕获所述焦点偏移图像；以及采用所述焦点偏移图像计算所述最佳焦点偏移值。