[发明专利]一种用于大分子研究的串联质谱有效

专利信息
申请号: 201810832104.7 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN108732100B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 徐赛华;张向平;赵永建 申请(专利权)人: 金华职业技术学院
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/73
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321017 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及分子谱学领域,一种用于大分子研究的串联质谱,包括缓冲气出口、喷雾腔、电喷雾装置、电源、缓冲气体腔、出气口、缓冲气进口、真空腔、离子聚束器、四极杆质量过滤器、探测器、偏向器、八极杆引导器、激光器、离子阱,离子聚束器包括第1个至第100个环形电极盘共100片环形电极盘组成,所述第1个到第50个环形电极盘的中心孔径均为26毫米,第51个到第100个环形电极盘的孔径从26毫米线性减小至2毫米,其中第30个环形电极盘处具有一个直径为七毫米的金属盘,所述金属盘平行共面地位于第30个环形电极盘中心孔的中心,并通过四根组成十字形的0.5毫米宽的金属支撑条与第30个环形电极相连,金属盘能够将离子流中的中性杂质的射流发散。
搜索关键词: 一种 用于 大分子 研究 串联
【主权项】:
1.一种用于大分子研究的串联质谱,主要包括缓冲气出口(1)、喷雾腔(2)、电喷雾装置(3)、高压电源(4)、缓冲气体腔(5)、出气口I(6)、出气口II(7)、缓冲气进口(8)、真空腔(9)、离子聚束器(10)、四极杆质量过滤器I(11)、探测器I(12)、偏向器I(13)、八极杆引导器(14)、偏向器II(15)、激光器I(16)、离子阱(17)、偏向器III(18)、激光器II(19)、四极杆质量过滤器II(20)和探测器II(21),xyz为三维坐标系,探测器I(12)连接于偏向器I(13),真空腔(9)具有能透光的真空窗口,激光器I(16)发射的激光束能够通过所述真空窗口及偏向器II(15)进入离子阱(17),激光器II(19)发射的激光束能够通过所述真空窗口及偏向器III(18)进入离子阱(17),所述喷雾腔(2)、缓冲气体腔(5)和真空腔(9)依次连接,所述真空腔(9)被离子聚束器(10)、偏向器I(13)、偏向器II(15)和偏向器III(18)依次分隔为真空段I(9‑1)、真空段II(9‑2)、真空段III(9‑3)、真空段IV(9‑4)和真空段V(9‑5),真空段II(9‑2)和真空段III(9‑3)之间、真空段III(9‑3)和真空段IV(9‑4)之间、真空段IV(9‑4)和真空段V(9‑5)之间均分别在yz平面内呈90度角连接,所述偏向器I(13)、偏向器II(15)和偏向器III(18)分别位于所述90度角连接处,真空段I(9‑1)和真空段V(9‑5)分别位于真空腔(9)的起始端和末端,所述起始端具有小孔,所述真空腔(9)连接有真空泵组;四极杆质量过滤器I(11)位于真空段II(9‑2)内,四极杆质量过滤器I(11)和四极杆质量过滤器II(20)能够根据离子的荷质比对通过的离子进行质量选择,八极杆引导器(14)位于真空段III(9‑3)内,能够对离子束流进行引导,离子阱(17)位于真空段IV(9‑4)内,通过调节施加在离子阱(17)上的电势,能够将离子囚禁在离子阱(17)中,并能够将离子冷却,离子阱(17)具有束流挡板,能够阻挡离子束流,四极杆质量过滤器II(20)和探测器II(21)均位于真空段V(9‑5)内;电喷雾装置(3)位于喷雾腔(2)内,电喷雾装置(3)具有喷雾口,高压电源(4)与电喷雾装置(3)电缆连接,当高压电源(4)输出高于1000V的电压时,雾化的液体能够从所述喷雾口喷出,其特征是:缓冲气体腔(5)的横截面是直径为100毫米的圆形,所述横截面具有出气口II(7)和出气口I(6),出气口II(7)是直径为6毫米的圆形且位于缓冲气体腔(5)横截面的中心,出气口I(6)具有两个且关于出气口II(7)对称,缓冲气体腔(5)能够绕其在z方向的中心轴转动;出气口II(7)处安装有阀,能够通过外部电路控制阀的开启与关闭;离子聚束器(10)由第1个环形电极盘至第100个环形电极盘总共100片环形电极盘组成,所述环形电极盘的厚度均为0.5毫米,相邻的环形电极盘之间间隔均为0.5毫米、并沿z轴正方向平行且同心排列,所述第1个环形电极盘到第50个环形电极盘的中心孔径均为26毫米,第51个环形电极盘到第100个环形电极盘的孔径从26毫米线性减小至2毫米,其中第30个环形电极盘的中心孔处通过金属支撑条(10‑3)连接有一个直径为七毫米的金属盘,金属支撑条(10‑3)宽度为0.5毫米,所述金属支撑条(10‑3)具有四根且均布,能够使得金属盘与第30个环形电极盘中心孔同心,金属盘能够将离子流中的中性杂质的射流发散。
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