[发明专利]半导体改性的TiO2有效

专利信息
申请号: 201810821799.9 申请日: 2018-07-24
公开(公告)号: CN109055919B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 顾艳红;郑新华;罗彦 申请(专利权)人: 北京石油化工学院
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;C23C28/04;C25D11/26;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 齐胜杰
地址: 102617 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种半导体改性的TiO2纳米管阵列复合材料及其制备方法,其中,方法包括如下步骤:步骤一、采用阳极氧化法制备TiO2纳米管阵列;步骤二、将镉源、铅源和硫源分别溶于醇类溶剂中得到镉源前驱体溶液、铅源前驱体溶液和硫源前驱体溶液;步骤三、利用超声辅助进行连续离子层沉降在TiO2纳米管阵列的内壁和外壁同时形成均匀的CdS颗粒和PbS颗粒,再经热处理后得到半导体改性的TiO2纳米管阵列复合材料。本发明制得的CdS/PbS/TiO2纳米管阵列复合材料中在纳米管的内外壁上能够形成大面积均匀的CdS和PbS颗粒,大大增强了该复合材料对太阳光的利用率。同时方法简单、过程易于操控且材料复合均匀。
搜索关键词: 半导体 改性 tio base sub
【主权项】:
1.一种半导体改性的TiO2纳米管阵列复合材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、采用阳极氧化法制备TiO2纳米管阵列;步骤二、将镉源、铅源和硫源分别溶于醇类溶剂中得到镉源前驱体溶液、铅源前驱体溶液和硫源前驱体溶液;其中,所述镉源前驱体溶液的浓度、铅源前驱体溶液的浓度和硫源前驱体溶液的浓度均为0.005~0.2mol/L;步骤三、利用超声辅助进行连续离子层沉降在所述TiO2纳米管阵列的内壁和外壁同时形成均匀的CdS颗粒和PbS颗粒,再经热处理后得到所述半导体改性的TiO2纳米管阵列复合材料;其中,在步骤三中,所述热处理的温度为280~400℃,所述热处理时的升温速率为1~4℃/min,所述热处理的时间为0.5~3h。
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