[发明专利]靶材溅镀面粗糙度加工方法在审

专利信息
申请号: 201810806850.9 申请日: 2018-07-18
公开(公告)号: CN110735118A 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 友矿材料股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 32260 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 张欢勇
地址: 中国台湾新竹县竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明揭露一种靶材溅镀面粗糙度加工方法,用以于靶材上形成所需粗糙度的表面。首先,取一靶材并确认溅镀加工区,且对非加工区进行遮护,并对加工区进行喷砂及涂层处理,再以擦拭方式清洁靶材。藉由上述方法于靶材默认位置的表面,加工出平均粗糙度(Ra)18~20微米(μm)、均匀度在10%以下的粗糙面,并且令靶材整体洁净度需符合无尘室规范(美规209e)中class1000等级要求,让靶材于后续溅镀制程中,提供一优良的附着面。
搜索关键词: 靶材 加工区 溅镀 粗糙度加工 平均粗糙度 等级要求 默认位置 涂层处理 粗糙度 粗糙面 附着面 洁净度 均匀度 无尘室 美规 喷砂 遮护 制程 擦拭 清洁 加工
【主权项】:
1.一种靶材溅镀面粗糙度加工方法,其特征在于,包括;/n(a)取一靶材,并确认靶材上欲进行溅镀的一加工区,与不作溅镀的一非加工区;/n(b)利用一胶带包覆非加工区;/n(c)以一砂材对加工区进行喷砂处理,使加工区表面形成平均粗糙度(Ra)4~6微米(μm),且均匀度在10%以下的粗糙面;/n(d)以一钼涂层材对该加工区进行喷涂,使加工区表面形成平均粗糙度(Ra)18~20微米(μm),且均匀度在10%以下的粗糙面;/n(e)将胶带去除并配合一擦拭件,对靶材进行擦拭至靶材洁净度符合无尘级数class1000的要求。/n
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