[发明专利]一次成型制作目标防伪图案的核孔防伪薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 201810804933.4 申请日: 2018-07-20
公开(公告)号: CN109118947A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 庹先国;邓超;王琦标;张虹;李怀良;冷阳春;石睿;郑洪龙;李金夫;金东升 申请(专利权)人: 四川理工学院;成都理工大学;西南科技大学
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) 51239 代理人: 陈春华
地址: 643000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一次成型制作目标防伪图案的核孔防伪薄膜的方法,解决了现有技术中工艺复杂,防伪膜机械性能不好,防伪力度差的问题。本发明的方法,利用金属Gd对热中子吸收特性,在塑料薄膜前放置具有镂空防伪图案的Gd mask薄片后,放于热中子束流上进行辐照,在所述塑料薄膜得到核孔组合形成的防仿图案。本发明基于热中子束流辐照,利用金属Gd对热中子吸收特性,一次成型制备核孔防伪膜图案。本发明提高了防伪膜制作门槛,降低了核孔防伪膜图案制作的复杂程度,提高了核孔防伪膜的机械强度,更利于应用。
搜索关键词: 防伪膜 防伪图案 一次成型制作 热中子吸收 塑料薄膜 辐照 防伪薄膜 热中子 束流 机械性能 金属 图案 防伪力度 图案制作 一次成型 镂空 制备 门槛 制作 应用
【主权项】:
1.一次成型制作目标防伪图案的核孔防伪薄膜的方法,其特征在于,利用金属Gd对热中子吸收特性,在塑料薄膜前放置具有镂空防伪图案的Gd mask薄片后,放于热中子束流上进行辐照,在所述塑料薄膜得到核孔组合形成的防伪图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川理工学院;成都理工大学;西南科技大学,未经四川理工学院;成都理工大学;西南科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810804933.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top