[发明专利]瞬态电压抑制器及其制造方法有效
申请号: | 201810799198.2 | 申请日: | 2018-07-19 |
公开(公告)号: | CN109037205B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 车智路数据管理有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 44525 | 代理人: | 李明香 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市南湖区新丰镇*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种瞬态电压抑制器及其制造方法,包括:第一导电类型的衬底;生长于所述衬底上表面的第一导电类型的第一外延层;自所述第一外延层的上表面向下延伸至所述第一外延层内的第二导电类型的埋层;生长于所述第一外延层及所述埋层的上表面的第二导电类型的第二外延层;自所述第二外延层的上表面向下延伸至所述第二外延层内的第一导电类型的第一掺杂区;第二导电类型的第二掺杂区和第二导电类型的第三掺杂区;位于所述第二外延层的上表面的介质层;与所述第二外延层电连接的第一电极;以及与所述衬底下表面电连接的第二电极。所述瞬态电压抑制器具有低电容、集成度高、制造工艺简单的特点。 | ||
搜索关键词: | 瞬态 电压 抑制器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种瞬态电压抑制器,其特征在于,其包括:第一导电类型的衬底;第一导电类型的第一外延层,生长于所述衬底的上表面;第二导电类型的埋层,自所述第一外延层的上表面向下延伸至所述第一外延层内;第二导电类型的第二外延层,生长于所述第一外延层及所述埋层的上表面;第一导电类型的第一掺杂区,自所述第二外延层的上表面向下延伸至所述第二外延层内;第二导电类型的第二掺杂区和第二导电类型的第三掺杂区,所述第二掺杂区自所述第二外延层和所述第一掺杂区的上表面向下延伸,所述第二掺杂区的一部分位于所述第二外延层内,所述第二掺杂区的另一部分位于所述第一掺杂区内,所述第三掺杂区自所述第一掺杂区的上表面向下延伸至所述第一掺杂区内,所述第二掺杂区和所述第三掺杂区的掺杂浓度大于所述第二外延层的掺杂浓度;介质层,形成于所述第二外延层的上表面;第一电极,与所述第二外延层电连接;第二电极,与所述衬底的下表面电连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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