[发明专利]基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法在审
| 申请号： | 201810757735.7 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN108897196A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 徐步青;韦亚一;马玲;董立松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;谢湘宁 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法。该选择方法包括以下步骤：建立标记模型，标记模型包括由下至上层叠的下层光栅、至少一层中间层和上层光栅；模拟具有不同测量波长的光线垂直照射在标记模型的情况，其中，光线在标记模型中反射并衍射得到零级光和±1级光，±1级光中+1级光的光强为第一光强，±1级光中－1级光的光强为第二光强；获取第一光强与第二光强之间光强差，并建立光强差与光线波长之间的关系曲线；根据关系曲线中光强差绝对值的最大值选择测量波长。通过本方法选择出特定条件下对套刻误差较为敏感的波长范围并直接应用，可减少多次的工艺试验，缩短生产、研发的周期，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光强 波长 测量 标记模型 套刻误差 光强差 衍射 光栅 关系曲线 最大值选择 方法选择 工艺试验 光线波长 光线垂直 零级光 中间层 研发 反射 下层 照射 上层 敏感 节约 应用 生产 | ||
【主权项】：
1.一种基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法，其特征在于，包括以下步骤：建立标记模型，所述标记模型包括由下至上层叠的下层光栅(10)、至少一层中间层(20)和上层光栅(30)；模拟具有不同测量波长的光线垂直照射在所述标记模型的情况，其中，所述光线在所述标记模型中反射并衍射得到零级光和±1级光，所述±1级光中+1级光的光强为第一光强，所述±1级光中－1级光的光强为第二光强；获取所述第一光强与所述第二光强之间光强差，并建立所述光强差与光线波长之间的关系曲线；根据所述关系曲线中光强差绝对值的最大值选择所述测量波长。
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