[发明专利]形成无规共聚物、层压体及图案的方法有效
| 申请号： | 201810754156.7 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN109422848B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李滥揆;金善英;李光国;咸珍守 | 申请（专利权）人： | SK新技术株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/14 | 分类号： | C08F220/14;C08F212/08;C08F220/36;C08F212/14;C09D133/14 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;赵赫 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及促进形成定向自组装图案的用于形成中性层的无规共聚物及包含其的用于形成图案的层压体、利用其形成高品质图案的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 共聚物 层压 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.用于形成中性层的无规共聚物，其包含由下述化学式1～3表示的结构单元，[化学式1]![]()
[化学式2]![]()
[化学式3]![]()
所述化学式1～3中，所述R1至R8分别独立地为氢、卤素或C1至C10烃基，所述L1及L2作为连接基团分别独立地为直接键、‑C(＝O)‑O‑、C1至C20亚烃基或C1至C20卤代亚烃基，所述R9及R10分别独立地为氢、卤素、C1至C10烃基、‑NCO或‑L3‑NCO，所述R9及R10中的任一个为‑NCO或‑L3‑NCO，所述L3为C1至C10亚烃基，所述分别以无规则排列的结构单元化学式1～3的摩尔比分别依次为m、n及l，所述m、n及l为满足0.2
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SK新技术株式会社，未经SK新技术株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810754156.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
