[发明专利]一种原位合成的纳米晶NiAl/Ni3

摘要

本发明公开了一种原位合成的纳米晶NiAl/Ni3Al双金属间化合物涂层的制备方法，包括如下步骤：将纳米结构的NiAl与Ni粉末在惰性气体保护下通过机械合金化技术制备NiAl含量为20vol.％～40vol.％的NiAl/Ni复合粉末，筛分，收集尺寸在30～50μm的NiAl/Ni复合粉末；对基体材料进行喷砂粗化预处理后，采用冷喷涂系统在完成预处理的基体材料表面沉积制备厚度为200μm～300μm的NiAl/Ni复合涂层，然后将该涂层置于惰性气体环境中热处理5～15小时。本发明有利于控制粒子间结合、金属间化合物粒径大小及分布，所制备的涂层致密性好，且操作简单、成本较低，特别适用于工业应用推广。

主权项

1.一种原位合成的纳米晶NiAl/Ni3Al双金属间化合物涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、将纳米结构的NiAl与Ni粉末在惰性气体保护下通过机械合金化技术制备NiAl含量在20vol.％～40vol.％之间的NiAl/Ni复合粉末，其中，NiAl晶粒尺寸控制在10～50nm，Ni晶粒尺寸控制在10～30nm；S2、将所得的NiAl/Ni复合粉末进行筛分，收集尺寸在30～50μm的NiAl/Ni复合粉末；S3、对基体材料进行喷砂粗化预处理，所述基体材料为316L不锈钢和Al板；S4、以步骤S2所采集的NiAl/Ni复合粉末为喷涂粉末，采用冷喷涂系统在完成预处理的基体材料表面沉积制备厚度为200μm～300μm的NiAl/Ni复合涂层，其中，送粉量为60～80g/min；S5、将所述的NiAl/Ni复合涂层置于惰性气体环境中热处理5～15小时，其中，热处理的条件为：室温至250℃，升温速率为20～25℃/min；250℃至450℃，升温速率为5～10℃/min；450℃至550～650℃，升温速率为2～5℃/min。