[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

一种曝光装置，具备两个载台(WST1、WST2)，能彼此独立地移动，且具有于载置园片(wafer)(W)的面下方的位置分别设有光栅(RG)的台(WTB)；以及测量载台(MST)，其能与两个载台独立地移动，并且根据通过光学系统接收的能量束的受光结果进行与曝光相关联的测量。在曝光站(200)及测量站(300)中，分别设有第1、第2测量系统，通过对载台的光栅从下方照射测量光束，测量载台所具有的台的位置。

主权项

1.一种曝光装置，以能量束通过光学系统使物体曝光，所述装置具备：第1移动构件及第2移动构件，其分别能保持所述物体且在既定平面内的区域内彼此独立移动，并且分别于载置所述物体的面的下方位置设有第1光栅，所述区域包含进行所述能量束对所述物体的曝光的曝光站以及从该曝光站在平行于既定平面的第1方向分离配置且对所述物体进行既定测量的测量站；第1测量系统，其设于所述曝光站，具有以所述第1方向作为长度方向的第1测量构件，从该第1测量构件对所述第1移动构件及第2移动构件中位于所述曝光站的移动构件的所述第1光栅从下方照射第1测量光束，测量位于所述曝光站的该移动构件的第1位置信息；第2测量系统，其设于所述测量站，具有以所述第1方向作为长度方向的第2测量构件，从该第2测量构件对所述第1移动构件及第2移动构件中位于所述测量站的移动构件的所述第1光栅从下方照射第2测量光束，测量位于所述曝光站的该移动构件的第2位置信息；第3移动构件，其能与所述第1移动构件及第2移动构件独立在所述既定平面内移动并且包含通过所述光学系统接收所述能量束的受光面，且其中光学构件是测量装置的至少一部分，其根据通过所述受光面而接收的所述能量束的受光结果进行与曝光相关联的测量；以及驱动系统，其分别驱动所述第1移动构件、第2移动构件及第3移动构件。