[发明专利]确定放射治疗的照射分布的装置和放射治疗系统有效

专利信息
申请号: 201810717773.X 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108771795B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 王伟远 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技股份有限公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201807 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种确定放射治疗的照射分布的装置,包括:存储器,用于存储可由处理器执行的指令;处理器,用于执行所述指令以实现如下所述的流程:获取目标剂量分布、目标函数、初始射野形状和初始射野强度;基于构成射野形状的第一变量组对目标函数进行第一优化,以得到多个控制点的射野形状和射野强度,第一优化包括局部优化方法;根据多个控制点的射野形状和射野强度得到当前剂量分布,比较当前剂量分布与目标剂量分布,确定是否进行第二优化;当确定进行第二优化时,基于目标函数中的第二变量组进行第二优化,且在第二优化结束后返回进行第一优化的步骤,其中第二优化包括全局优化方法,第二变量组选自第一变量组的一部分。
搜索关键词: 确定 放射 治疗 照射 分布 装置 系统
【主权项】:
1.一种确定放射治疗的照射分布的装置,包括:存储器,用于存储可由处理器执行的指令;处理器,用于执行所述指令以实现如下所述的流程:获取目标剂量分布、目标函数、初始射野形状和初始射野强度;基于构成射野形状的第一变量组对所述目标函数进行第一优化,以得到多个控制点的射野形状和射野强度,所述第一优化包括局部优化方法;根据所述多个控制点的射野形状和射野强度得到当前剂量分布,比较当前剂量分布与目标剂量分布,确定是否进行第二优化;当确定进行所述第二优化时,基于所述目标函数中的第二变量组进行第二优化,且在所述第二优化结束后返回进行所述第一优化的步骤,其中所述第二优化包括全局优化方法,所述第二变量组选自所述第一变量组的一部分。
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