[发明专利]基于预处理成像的适应性放射治疗系统、装置及存储介质有效
| 申请号： | 201810684445.4 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN109011203B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | J·S·墨子 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人： | 杨永梅 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种适应性放射治疗系统、装置及存储介质，包括：获取与第一治疗计划的第一分次治疗相关的目标区域的计划图像；获取与以第一剂量水平对目标区域的第一扫描相关的目标区域的第一图像；比较计划图像与第一图像以产生第一比较结果；确定第一比较结果是否满足第一重计划条件；响应于确定第一比较结果满足第一重计划条件，一个或多个扫描仪执行第二剂量水平的第二扫描以提供第二图像；根据第二图像生成第二治疗计划，其中，第二剂量水平可以高于所述第一剂量水平。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 预处理 成像 适应性 放射 治疗 系统 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一个适应性放射治疗系统，其特征在于，包括：获取单元，用于获取与第一治疗计划相关的目标区域的计划图像，以及用于获取与第一剂量水平的第一扫描相关的所述目标区域的第一图像；比较单元，用于比较所述计划图像与所述第一图像，生成第一比较结果；以及用于确定所述第一比较结果是否满足第一重计划条件；治疗计划单元，用于响应于确定第一比较结果满足第一重计划条件，使一个或多个扫描仪执行第二剂量水平的第二扫描，提供第二图像，根据所述第二图像，生成第二治疗计划，其中，所述第二剂量水平高于第一剂量水平。
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