[发明专利]曝光流程控制方法、装置、设备及介质有效
| 申请号： | 201810676483.5 | 申请日： | 2018-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN108919608B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 梁侃;李伟;唐定车;王艳 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种曝光流程控制方法、装置、设备及介质，所述方法包括：接收携带有曝光状态的曝光指令；根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作；根据所述目标操作生成目标操作指令，并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。本发明实施例提供的曝光流程控制方法使得曝光指令更加简洁清楚，并且使曝光流程的控制指令不随部件类型的变化而更改，能够实现同一成像系统在不更换系统控制软件的情况下对不同类型部件的控制以完成曝光流程，当需要对部件进行更改或升级时，不需要调整主控模块的核心逻辑，使成像系统设计更加简化、合理，系统软件维护更加可靠，部件的升级或更换更加简便。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 流程 控制 方法 装置 设备 介质 | ||
【主权项】：
1.一种曝光流程控制方法，其特征在于，包括：接收携带有曝光状态的曝光指令；根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作；根据所述目标操作生成目标操作指令，并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。
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