[发明专利]一种高灵敏度扭摆式硅微加速度计及其制备方法有效
申请号: | 201810650974.2 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN109001490B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 肖定邦;吴学忠;侯占强;陈志华;苗桐侨;卓明;周剑;张勇猛;朱新建;李涛;李青松;胡倩 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学;湖南天羿领航科技有限公司 |
主分类号: | G01P15/125 | 分类号: | G01P15/125 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 谭武艺 |
地址: | 410073 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种高灵敏度扭摆式硅微加速度计及其制备方法,硅微加速度计包括连接为一体的硅基板和硅敏感结构,硅敏感结构包括应力释放结构、两对支撑梁、一对耦合敏感质量块以及一对锚点,一对耦合敏感质量块之间对称布置,且每一个耦合敏感质量块均分别通过一根单独的支撑梁和锚点相连、通过另一根单独的支撑梁和应力释放结构连接耦合,每一个耦合敏感质量块的质心位于和锚点相连的支撑梁的中点;制备方法采用干法刻蚀制备。本发明具有器件空间利用率高、敏感质量块有效检测面积大、高灵敏度、成品率高、成本低、加工质量高、加工鲁棒性好、应用范围广的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 灵敏度 扭摆 式硅微 加速度计 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高灵敏度扭摆式硅微加速度计,包括连接为一体的硅基板(1)和硅敏感结构(2),其特征在于:所述硅敏感结构(2)包括应力释放结构(21)、两对支撑梁(22)、一对耦合敏感质量块(23)以及一对锚点(24),一对耦合敏感质量块(23)之间对称布置,且每一个耦合敏感质量块(23)均分别通过一根单独的支撑梁(22)和锚点(24)相连、通过另一根单独的支撑梁(22)和应力释放结构(21)连接耦合,每一个耦合敏感质量块(23)的质心位于和锚点(24)相连的支撑梁(22)的中点,所述锚点(24)位于耦合敏感质量块(23)的中部;所述硅基板(1)上设有电容板组件(11)和引线电极组件(12),所述电容板组件(11)分别设于耦合敏感质量块(23)下方且与耦合敏感质量块(23)间隙布置,所述引线电极组件(12)和电容板组件(11)相连。
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