[发明专利]单片式n-i-p-i-n型宽光谱光电探测器有效

专利信息
申请号: 201810618714.7 申请日: 2018-06-15
公开(公告)号: CN108807588B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 邹泽亚 申请(专利权)人: 杭州国翌科技有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/115;H01L31/18
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 郑娴雅
地址: 311200 浙江省杭州市萧山区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出了一种单片式n‑i‑p‑i‑n型宽光谱光电探测器,包括InP衬底;在InP衬底上形成有第一导电类型的InP作为下接触层;在下接触层之上形成有本征Inx1Ga1‑x1As作为第一吸收层;在第一吸收层之上形成有第二导电类型的InP作为公共接触层;在公共接触层之上形成有晶格适配缓冲层;在晶格适配缓冲层之上形成有本征或者第一导电类的Inx2Ga1‑x2As作为第二吸收层;在第二吸收层之上形成第一导电类型的Inx3Al1‑x3As上接触层。本发明采用双色探测器设计方案,将标准波长响应PIN探测器与延伸波长响应PIN探测器相结合,利用PD1响应1.7μm以下谱段,利用PD2响应1.7‑2.5μm谱段。PD1与PD2共用P电极,形成背入射式的n‑i‑p‑i‑n型器件结构,通过电极偏置的切换实现响应光谱的调制。
搜索关键词: 单片 光谱 光电 探测器
【主权项】:
1.一种单片式n‑i‑p‑i‑n型宽光谱光电探测器,其特征在于,包括:InP衬底;在所述InP衬底上形成有第一导电类型的InP作为第一吸收层结构的下接触层;在所述第一吸收层结构的下接触层之上形成有本征Inx1Ga1‑x1As作为第一吸收层,所述0x1;在所述第二吸收层之上形成第一导电类型的Inx3Al1‑x3As上接触层,所述0
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