[发明专利]X射线自聚焦射线源及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201810614623.6 申请日: 2018-06-14
公开(公告)号: CN108744311A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 宋世鹏 申请(专利权)人: 宋世鹏
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 刘翔
地址: 200443 上海市宝山*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种X射线自聚焦射线源,包括高能电子束发生装置、若干个串联排布的偏转组件、靶材组件以及带有若干准直孔的准直器组件,若干个所述偏转组件连接有用于控制所述偏转组件开关的控制组件,所述偏转组件用于偏转高能电子束的方向使其作用于所述靶材组件,所述靶材组件包括有若干个与所述偏转组件相配合的靶材,若干个所述靶材呈圆弧形或直线分布,且具有一聚焦点。本发明提供的X射线自聚焦射线源及其使用方法能够使得治疗效果更好。
搜索关键词: 偏转组件 靶材组件 射线源 自聚焦 高能电子束 靶材 偏转 准直器组件 发生装置 控制组件 直线分布 治疗效果 聚焦点 圆弧形 准直孔 排布 串联 配合
【主权项】:
1.一种X射线自聚焦射线源,其特征在于,包括高能电子束发生装置、若干个串联排布的偏转组件、靶材组件以及带有若干准直孔的准直器组件,若干个所述偏转组件连接有用于控制所述偏转组件开关的控制组件,所述偏转组件用于偏转高能电子束的方向使其作用于所述靶材组件,所述靶材组件包括有若干个与所述偏转组件相配合的靶材,若干个所述靶材呈圆弧形或直线分布,且具有一聚焦点。
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