[发明专利]一种MoTe2有效

专利信息
申请号: 201810579970.X 申请日: 2018-06-07
公开(公告)号: CN108987483B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 何军;阿米尔·梅尔内贾特;王振兴;王峰;詹雪莹 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君;陈征
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种离子胶体门控制的MoTe2场效应晶体管及其制备方法和应用。所述离子胶体门控制的MoTe2场效应晶体管,其特征在于,包括:一复合基底,由下层Si层和上层SiO2层复合组成;一MoTe2纳米片,位于SiO2层表面;一源极,位于MoTe2纳米片表面;一漏极,位于MoTe2纳米片表面;一栅极,位于SiO2层表面;一离子胶体层,覆盖于MoTe2纳米片、源极、漏极及栅极。本发明用机械剥离方法,获取MoTe2纳米片并转移到硅/氧化硅衬底上,通过电子束曝光、热蒸镀金电极、转移离子胶体等工艺获得离子胶体门控制的MoTe2场效应晶体管。本发明所获得MoTe2场效应晶体管为N型,其开关比高,开启电流可达微安级别。同时本发明所述方法制备工艺简单,可用于半导体器件制备相关领域。
搜索关键词: 一种 mote base sub
【主权项】:
1.一种离子胶体门控制的MoTe2场效应晶体管,其特征在于,包括:一复合基底,由下层Si层和上层SiO2层复合组成;一MoTe2纳米片,位于SiO2层表面;一源极,位于MoTe2纳米片表面;一漏极,位于MoTe2纳米片表面;一栅极,位于SiO2层表面;一离子胶体层,覆盖于MoTe2纳米片、源极、漏极及栅极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家纳米科学中心,未经国家纳米科学中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810579970.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top