[发明专利]一种含有吡啶酮结构分散染料的制备工艺与应用有效
| 申请号： | 201810571571.9 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN108587229B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 孙岩峰;沈师悦;邵辉;陈美芬 | 申请（专利权）人： | 杭州吉华江东化工有限公司 |
| 主分类号： | C09B29/42 | 分类号： | C09B29/42;D06P1/18;D06P3/54 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 俞润体 |
| 地址： | 311228 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及分散染料领域，为解决吡啶酮系列染料合成过程中不符合环保要求的问题，本发明提出了一种含有吡啶酮结构分散染料的制备工艺，作为偶合组分的N‑取代吡啶酮在制备后，在pH值范围内直接与重氮盐进行偶合反应，得到含有吡啶酮结构分散染料。工艺步骤简化，降低了环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 吡啶 结构 分散染料 制备 工艺 应用 | ||
【主权项】：
1.一种含有吡啶酮结构分散染料的制备工艺，其特征在于：作为偶合组分的N‑取代吡啶酮在制备后，在pH值范围内直接与重氮盐进行偶合反应，得到含有吡啶酮结构分散染料。
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