[发明专利]一种制作三维电极图形的辅助装置在审
| 申请号： | 201810569703.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN108726474A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 林丙涛;梅松;江黎;王宾 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 李海华 |
| 地址： | 400060 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种制作三维电极图形的辅助装置，包括阻挡板，在阻挡板上设有上下贯穿的通孔，在阻挡板下表面设有至少两个对准凸台；对准凸台与待加工晶片上设置的对准孔对应以用于插入该对准孔中；通孔的位置与待加工晶片上需图形化的位置对应，通孔的深度和横截面大小以满足金属粒子能够通过该通孔到达晶片需要图形化的区域。本发明图形精度更高且价格低廉，装配简单，装配工艺效率得以提高；此外，该掩模采用硅或石英基材加工，沉积于其上面的金属膜层可通过金属腐蚀液直接去除，非常方便重复使用，理论上可无限次重复使用。 | ||
| 搜索关键词： | 通孔 阻挡板 辅助装置 加工晶片 三维电极 对准孔 图形化 凸台 对准 金属腐蚀液 金属粒子 金属膜层 上下贯穿 石英基材 装配工艺 下表面 晶片 掩模 沉积 去除 制作 装配 加工 | ||
【主权项】：
1.一种制作三维电极图形的辅助装置，其特征在于：包括阻挡板，在阻挡板上设有上下贯穿的通孔，在阻挡板下表面设有至少两个对准凸台；对准凸台与待加工晶片上设置的对准孔对应以用于插入该对准孔中；通孔的位置与待加工晶片上需图形化的位置对应，通孔的深度和横截面大小以满足金属粒子能够通过该通孔到达晶片需要图形化的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第二十六研究所，未经中国电子科技集团公司第二十六研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810569703.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种表面微结构阵列的加工方法
- 下一篇：一种制氢设备及其制氢方法
