[发明专利]一种交联型两性离子基团修饰的正渗透膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201810565464.5 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN110548398B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 宋维广 | 申请（专利权）人： | 宁波蓝盾新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D61/00 | 分类号： | B01D61/00;B01D67/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王茹;王锋 |
| 地址： | 315000 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种交联型两性离子基团修饰的正渗透膜及其制备方法。所述的制备方法包括：提供包含聚合物、含叔胺基团的两性离子前驱体、亲水性单体、引发剂和溶剂的混合反应体系，加热所述混合反应体系使含叔胺基团的两性离子前驱体和亲水性单体发生自由基共聚合反应而形成包含两性离子聚合物和亲水性聚合物的无规共聚物，得到制膜溶液；将所述制膜溶液制备成膜，并先浸入凝固浴、再浸入交联浴，获得交联型两性离子基团修饰的正渗透膜。采用本发明方法制备的正渗透膜具有亲水性强、水通量大、抗污染能力强等特点，同时制备工艺简便、易行，利于大规模的开发生产，具有广阔的工业化应用的前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 交联 两性 离子 基团 修饰 渗透 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种交联型两性离子基团修饰的正渗透膜及其制备方法，其特征在于包括：/n提供至少包含聚合物、含叔胺基团的两性离子前驱体、亲水性单体、引发剂和溶剂的混合反应体系；/n加热所述混合反应体系使所述含叔胺基团的两性离子前驱体和亲水性单体发生自由基共聚合反应而形成两性离子聚合物和亲水性聚合物组成的无规共聚物，得到制膜溶液；/n将所述制膜溶液制备成膜，并先浸入凝固浴、再浸入交联浴，获得交联型两性离子基团修饰的正渗透膜。/n
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