[发明专利]一种ZnS包覆ZnO纳米核壳结构复合薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201810560530.X | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN108754442A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;沈洪雪;姚婷婷;杨勇;李刚 | 申请（专利权）人： | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;H01L31/18 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 陈俊 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种ZnS包覆ZnO纳米核壳结构复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：清洗衬底，去除衬底表面的油污和杂质；采用磁控溅射设备，以ZnS靶与ZnO靶为溅射靶材，ZnS靶与ZnO靶的靶座均与水平面呈45º夹角，使ZnS靶与ZnO靶的延长线相交于一点，衬底置于ZnS靶与ZnO靶的相交点上；S3、通入工作气体氩气，首先使ZnS靶溅射功率45W、ZnO靶溅射功率150W，进行共溅射25min；然后ZnS靶溅射功率增大至100W、ZnO靶溅射功率减小至80W进行共溅射3min；最后关闭ZnO靶、ZnS靶溅射功率增大至150W，溅射2min，得到ZnS包覆ZnO纳米核壳结构复合薄膜；ZnS禁带宽度与ZnO非常接近，两者之间不会由于晶格常数相差太多造成薄膜应力过大的问题，最终形成一个二元的复合体系。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米核壳结构 复合薄膜 靶溅射 包覆 功率增大 溅射功率 共溅射 衬底 制备 磁控溅射设备 工作气体氩气 衬底表面 复合体系 溅射靶材 晶格常数 相交点 延长线 油污 靶座 减小 溅射 禁带 去除 薄膜 相交 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种ZnS包覆ZnO纳米核壳结构复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、清洗衬底，去除衬底表面的油污和杂质；S2、采用磁控溅射设备，以ZnS靶与ZnO靶为溅射靶材，ZnS靶与ZnO靶的靶座均与水平面呈45º夹角，使ZnS靶与ZnO靶的延长线相交于一点，衬底置于ZnS靶与ZnO靶的相交点上；S3、通入工作气体氩气，首先使ZnS靶溅射功率45W、ZnO靶溅射功率150W，进行共溅射25min；然后ZnS靶溅射功率增大至100W、ZnO靶溅射功率减小至80W进行共溅射3min；最后关闭ZnO靶、ZnS靶溅射功率增大至150W，溅射2min，得到ZnS包覆ZnO纳米核壳结构复合薄膜。
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