[发明专利]一种匀光装置及包括该匀光装置的发光设备在审
申请号: | 201810554757.3 | 申请日: | 2018-06-01 |
公开(公告)号: | CN110554533A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 陈林森;乔文;花尔凯;方宗豹 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州维旺科技有限公司;苏州大学 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357;G02B27/09;G02B27/10 |
代理公司: | 32295 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种匀光装置及包括该匀光装置的发光设备,所述匀光装置包括分光层和光谱调制层,光源发出的光通过所述分光层散射,再通过光谱调制层调制并拓宽光谱。本发明的匀光装置,光源发出的光通过分光层时发生波前转换,改变光线出射角度使光线散射;出射的光再通过匀光片时,进一步将光线散射,得到均匀度极高的光分布;最后,均匀的光激发荧光物质或者量子点,改变并扩宽照明光谱,形成均匀的可见光。 | ||
搜索关键词: | 匀光装置 分光层 光谱调制 光线散射 光源 可见光 发光设备 光线出射 荧光物质 照明光谱 光分布 光激发 均匀度 量子点 散射 出射 光谱 扩宽 匀光 调制 转换 | ||
【主权项】:
1.一种匀光装置,其特征在于,包括分光层和拓宽光谱层,光源发出的光通过所述分光层散射,再通过所述拓宽光谱层调制并拓宽光谱。/n
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