[发明专利]4H-SiC在制备高压压砧中的应用在审

专利信息
申请号: 201810547469.5 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108760633A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 王霖;张金波 申请(专利权)人: 北京高压科学研究中心
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 王洁平
地址: 100094 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种4H‑SiC在制备高压压砧中的应用。本发明将4H‑SiC用于制备高压压砧,进而用于高压下红外吸收光谱分析、高压下紫外‑可见吸收光谱分析和高压下拉曼光谱分析。和现有技术相比,本发明的有益效果在于:利用光谱学方法表征材料在高压环境下的结构、性质时,使用4H‑SiC压砧可以弥补金刚石压砧的不足,甚至远远优于金刚石压砧。4H‑SiC作为高压加载材料一方面大大节约天然资源;另一方面与天然金刚石压砧相比较,使用廉价的人造4H‑SiC制作压砧可以大大促进高压科学研究广泛开展。
搜索关键词: 压砧 光谱分析 制备 金刚石压砧 光谱学 天然金刚石 表征材料 高压环境 红外吸收 天然资源 加载 下拉 应用 科学研究 节约 吸收 制作
【主权项】:
1.一种4H‑SiC在制备高压压砧中的应用。
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