[发明专利]一种ARC后部磁场调整机构在审
申请号: | 201810527994.0 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN108754441A | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 刘晓华 | 申请(专利权)人: | 大连维钛克科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116600 辽宁省大连市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种ARC后部磁场调整机构,靶材座上部安装靶材,靶材座下方设有冷却法兰,冷却法兰外部对称焊接有冷却法兰焊接件,冷却法兰焊接件为中空结构,冷却法兰焊接件端部连接水嘴,冷却法兰焊接件、冷却法兰上部和靶座之间的中空结构构成冷却水路;冷却法兰下部安装螺母盖,贯穿螺母盖螺纹安装手柄,位于冷却法兰内部的手柄上端安装磁铁座,磁铁座上安装磁铁。本发明将后部磁铁安装在可调整的手柄机构上,以有效调整磁铁与靶材的距离来实现后部磁场始终给溅射离子提供足够的能量;在靶材后面加上冷却装置对靶材冷却,同时也能保证溅射的离子更加细小,杜绝大颗粒的产生,使膜层更加细腻、增强结合力,使弧源运行性能更加稳定、可靠。 | ||
搜索关键词: | 冷却法兰 靶材 焊接件 磁场调整机构 手柄 中空结构 磁铁座 磁铁 溅射 离子 安装螺母 磁铁安装 端部连接 对称焊接 冷却水路 冷却装置 螺纹安装 手柄机构 有效调整 运行性能 大颗粒 结合力 可调整 螺母盖 上端 靶座 对靶 弧源 膜层 水嘴 磁场 冷却 贯穿 外部 保证 | ||
【主权项】:
1.一种ARC后部磁场调整机构,其特征在于:靶材座(2)上部安装靶材(1),靶材座(2)下方设有冷却法兰(4),冷却法兰(4)外部对称焊接有冷却法兰焊接件(12),冷却法兰焊接件(12)与靶材座(2)固定连接,冷却法兰焊接件(12)为中空结构,冷却法兰焊接件(12)端部连接水嘴(3),冷却法兰焊接件(12)、冷却法兰(4)上部和靶座(2)之间的中空结构构成冷却水路;冷却法兰(4)下部安装螺母盖(5),贯穿螺母盖(5)螺纹安装手柄(6),位于冷却法兰(4)内部的手柄(6)上端安装磁铁座(8),磁铁座(8)上安装磁铁(10)。
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