[发明专利]一种非闪烁量子点及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810482250.1 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108559483B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 申怀彬;李林松 申请(专利权)人: 河南大学
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 11569 北京高沃律师事务所 代理人: 刘奇
地址: 475000*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及半导体功能材料技术领域,特别涉及一种非闪烁量子点及其制备方法。本发明将壳层生长温度控制在比核体生长温度高5~80℃,使壳层源各组分在高温条件下反应,促进壳层源各离子的相互渗透,消除壳层晶体内部的缺陷,进而得到晶相稳定的富集ZnSe材料,避免富集ZnSe材料被空气中的氧气氧化;同时,本发明还通过壳层源添加方式的设置,避免壳层源的各组分单独成核,进而得到以富集ZnSe材料为壳层的核壳结构量子点。利用上述方案得到的量子点的亮态比为90~100%,属于典型的非闪烁量子点。
搜索关键词: 壳层 量子点 非闪烁 富集 制备 半导体功能材料 高温条件 核壳结构 源添加 生长 成核 核体 亮态 离子 氧气
【主权项】:
1.一种非闪烁量子点的制备方法,包括如下步骤:/n(1)将核体与有机溶剂混合,得到核体溶液;/n(2)在无氧条件下,将壳层源的分散液滴加至所述步骤(1)核体溶液中,在所述核体表面原位生长壳层,得到非闪烁量子点;/n所述壳层源包括锌源和硒源;/n所述壳层源的分散液滴加速度为1~60mL/h;/n所述壳层的生长温度比核体的生长温度高5~80℃;所述壳层的生长时间为1~5h;/n所述步骤(1)中核体的化学组成选自CdSe,Cd
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